- silane cvd
- 硅烷化学汽相淀积
English-Chinese electricity dictionary (电气专业词典). 2013.
English-Chinese electricity dictionary (电气专业词典). 2013.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
materials science — the study of the characteristics and uses of various materials, as glass, plastics, and metals. [1960 65] * * * Study of the properties of solid materials and how those properties are determined by the material s composition and structure, both… … Universalium
PHOTOPILES SOLAIRES — Les crises successives du pétrole (avec un prix du baril multiplié par 5 en 1973 pour retomber de moitié en 1981) et l’accroissement continuel de la demande d’énergie dans tous les pays du monde (qui suit une loi inexorablement linéaire en… … Encyclopédie Universelle
Low-k — Als Low k Dielektrikum wird in der Halbleitertechnologie ein Material bezeichnet, das eine niedrigere Dielektrizitätszahl als SiO2 aufweist, d. h. εr < 3,9. Angestrebt werden heutzutage sogenannte Ultra low k Materialien, deren… … Deutsch Wikipedia
Epitaxy — refers to the method of depositing a monocrystalline film on a monocrystalline substrate. The deposited film is denoted as epitaxial film or epitaxial layer. The term epitaxy comes from a Greek root ( epi above and taxis in ordered manner ) which … Wikipedia
Low-k-Dielektrikum — Als Low k Dielektrikum wird in der Halbleitertechnologie ein Material bezeichnet, das eine niedrigere Dielektrizitätszahl als SiO2 aufweist, d. h. εr < 3,9. Angestrebt werden heutzutage sogenannte Ultra low k Materialien, deren… … Deutsch Wikipedia
Haftvermittler — sind Substanzen, die dazu eingesetzt werden, die Haftfestigkeit von Verbünden zu verbessern. Inhaltsverzeichnis 1 Grundlagen 2 Mechanismen 3 Vorbehandlung der Substratoberflächen 4 … Deutsch Wikipedia
Semiconductor device fabrication — Semiconductor manufacturing processes 10 µm 1971 3 µm 1975 1.5 µm 1982 … Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Flammenbeschichtung — Die Flammenbeschichtung, häufig auch Flammenpyrolytische Beschichtung (englisch combustion chemical vapor deposition, CCVD) ist ein Verfahren zur Abscheidung funktioneller dünner Schichten bei Atmosphärendruck. Das Verfahren gehört zur… … Deutsch Wikipedia
Tungsten(VI) fluoride — Chembox new ImageFileL1 = Tungsten(VI) fluoride.jpg ImageSizeL1 = 100px ImageNameL1 = Tungsten(VI) fluoride ImageFileR1 = Tungsten hexafluoride 3D balls.png ImageSizeR1 = 100px ImageNameR1 = Ball and stick model of tungsten hexafluoride IUPACName … Wikipedia